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TFC-50200A

TFC-50200A

碳方程50200A MPCVD设备采用915MHZ的微波频率及50KW运行功率，该设备单炉可生产8英寸多晶产品，若用于生产单晶金刚石，单炉能够稳定产出多达489 片尺寸为 7*7mm的单晶金刚石，具有高可靠性、稳定运行、无人值守的安全联锁性能，极大地提高了生产效率，此设备旨在解决大尺寸金刚石的生长、高沉积速率的难题。
TFC-10800D

TFC-10800D

TFC-10800D，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。
TFC-10800C

TFC-10800C

TFC-10800C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。
TFC-6500B

TFC-6500B

TFC-6500B，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微 波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于 单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。
TFC-6650C

TFC-6650C

TFC-6650C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。
金刚石热沉片

金刚石热沉片

金刚石热沉片是继硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓等之后的重要半导体材料之一，可用于重要的半导体器件，在生物检测和医疗、平板显示、环保工程、功能器件等多个高新技术领域都有巨大的应用潜力。金刚石材料的热导率和电学特性优势十分显著，没有任何明显短板，其热导率可达2000W/m.k，是铜、银的5倍，又是良好的绝缘体，这也使得金刚石器件拥有更高的功率处理能力。
金刚石光学片

金刚石光学片

金刚石光学片作为一种光学器件，通过微波等离子体化学气相沉积工艺，将金刚石的卓越光学性能与力学、热学、电学和化学性能相结合。这种合成窗口具备不同几何结构，使其能在极端条件下发挥作用。金刚石光学片主要应用于X射线、深紫外到微波范围内。金刚石光学窗口可以应用于各种光学元件、制备高功率激光器的发射窗口及激光晶体、大功率紫外/红外光学仪器的镜头、探测器和传感器等。
钻石晶体

钻石晶体

运用化学气相沉积法以片状的钻石作为种子，利用微波的方式让钻石可以在高温低压的环境生长，在高达1200℃等离子反应器中加入碳原子，原子就能一个接一个地附着在一块薄薄的钻石晶体上，逐渐‘长大’成为大的培育钻石，有价格低、环保、可定制的优势。培育钻石和天然钻石一样，都是纯碳结晶体，甚至拥有和天然钻石一样的光学性质、硬度和折射率等。
金刚石刀具

金刚石刀具

CVD金刚石是指用化学气相沉积法(CVD)在异质基体(如硬质合金、陶瓷等)上合成的金刚石膜，CVD金刚石具有与天然金刚石完全相同的结构和特性。CVD金刚石的性能与天然金刚石相比十分接近，兼有天然单晶金刚石和聚晶金刚石。金刚石刀具具有极高的硬度和耐磨性、低摩擦系数、切削刃非常锋利、高弹性模量、高热导、低热膨胀系数，以及与非铁金属亲和力小等性能特点。
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