金刚石热沉片，半导体散热领域的王者！

发布时间：2024-09-14 15:38:52 | 浏览量： 34次

随着电子产品不断迈向更高程度的集成化、小型化与智能化，电子元器件正面临功率输出提升与热流密度激增的双重挑战。与此同时，半导体技术的迅猛飞跃，特别是在新能源、电子信息技术及航空航天等前沿领域的持续革新，促使热量产生量急剧攀升。在这一背景下，散热性能成为了制约高功率设备进一步发展的核心瓶颈。

 金刚石凭借其高热导率特性，并得益于化学气相沉积（CVD）技术的显著进步，已成为热管理领域的明星材料。金刚石卓越的导热能力不仅有效延长了电子元器件的使用寿命，还极大地提升了设备的整体性能与运行效率，为突破散热难题提供了强有力的解决方案。



金刚石通过晶格振动传热，碳原子产生振动的量子能量较大，也就是振动频率很高，因此热导率非常高。天然单晶金刚石的室温(25℃)热导率可达到22 W/(cm·K)，作为对比，金属铜的热导率约为4 W/(cm·K)，而传统的半导体材料硅的热导率不足2 W/(cm·K)。采用CVD法人工培育的金刚石，其室温热导率通常也能达到10-20 W/(cm·K)。



碳方程在高端人造金刚石产品及MPCVD设备研发方面的显著成果，不仅标志着半导体器件散热技术的重大飞跃，更为高功率电子设备的性能提升与寿命延长提供了强有力的技术支持，对推动相关行业的技术进步与发展具有重要意义。